ASML, EUV 광원 1,000W 시대 연다… 2030년 칩 생산 50% 확대 청사진

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글로벌 반도체 장비 시장의 ‘절대 강자’ ASML이 또 한 번 기술 로드맵을 공개했습니다.

이번에 발표한 핵심은 EUV(극자외선) 장비의 광원 출력 강화입니다.

현재 600와트 수준인 EUV 광원을
1,000와트까지 끌어올리는 기술을 공개하며
2030년까지 시간당 칩 생산량을 약 50% 늘릴 수 있다고 밝혔습니다.

왜 ‘광원 출력’이 중요할까

EUV 장비는 최첨단 반도체를 만드는 데 필수적인 핵심 장비입니다.
특히 3나노, 2나노 등 초미세 공정에서는
사실상 EUV 없이 생산이 어렵습니다.

여기서 가장 중요한 요소 중 하나가
바로 **광원의 출력(파워)**입니다.

광원이 강해질수록
웨이퍼 위에 더 빠르게 패턴을 새길 수 있고,
이는 곧 시간당 생산량 증가로 이어집니다.

시간이 돈인 반도체 산업에서
처리 속도 50% 향상은 엄청난 의미를 가집니다.

생산 단가도 낮아진다

ASML은 광원 출력을 1,000W까지 끌어올리면
동일 시간 대비 더 많은 칩을 생산할 수 있어
결과적으로 칩당 생산 비용이 크게 낮아질 것이라고 설명했습니다.

이는 파운드리 업체와 메모리 제조사 모두에게
수익성 개선 요소가 될 수 있습니다.

특히 AI 반도체, 고성능 서버 칩 수요가 급증하는 상황에서
생산 능력 확장은 곧 시장 점유율 경쟁과 직결됩니다.

2030년 반도체 판도에 미칠 영향

현재 글로벌 최첨단 공정은
EUV 장비 수량과 가동 효율에 크게 좌우됩니다.

광원 출력이 1,000W로 상향된다면
동일한 장비 수로 더 많은 웨이퍼를 처리할 수 있어
대규모 증설 부담을 줄일 수도 있습니다.

이는 결국:

로 이어질 가능성이 큽니다.

ASML, 왜 중요한가

ASML은 EUV 장비를 사실상 독점 공급하는 기업입니다.
이 장비 없이는 최첨단 반도체 생산이 불가능에 가깝습니다.

이번 기술 공개는
단순 성능 개선이 아니라
차세대 반도체 경쟁의 속도를 끌어올리는 신호로 해석됩니다.

AI 시대, 반도체는 더 작아지고 더 복잡해지고 있습니다.
그리고 그 중심에서
ASML은 ‘보이지 않는 심장’처럼 산업을 움직이고 있습니다.

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